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OFET測(cè)試晶片S181 Ossila測(cè)試晶片S182 代理Ossila

OFET測(cè)試晶片S181 Ossila測(cè)試晶片S182 代理Ossila
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供應(yīng)數(shù)量:
2779
發(fā)布日期:
2025/10/4
有效日期:
2026/4/4
原 產(chǎn) 地:
已獲點(diǎn)擊:
2779
產(chǎn)品報(bào)價(jià):
  [詳細(xì)資料]

只用于動(dòng)物實(shí)驗(yàn)研究等

Low density bottom gate bottom contact prefabricated FET substrate Pre-fabricated low-density FET substrate.

OFET測(cè)試晶片S181 Ossila測(cè)試晶片S182 代理Ossila

Schematics

Constant channel length design

OFET測(cè)試晶片S181 Ossila測(cè)試晶片S182 代理Ossila

Low density FET substrate mask dimensions (constant channel length)Constant channel width low-density FET design.

 

Variable channel length design

Low density OFET substrate mask dimensions (variable channel length)Variable channel width low-density FET design.


 

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